VGF/VB單晶生長設備

單晶爐主要用于砷化鎵、銻化鎵、鍺等化合物材料的單晶生長。

VTM單晶生長設備

單晶爐是依據我公司自主研發的VTM工藝方法所設計的新型單晶工藝設備, 設備由加熱系統、運動系統支撐機構、電控系統四部分組成，適用碲化鎘、銻化鎵等多種化合物材料的單晶生長。

多晶合成設備

多晶合成爐主要用于GaAs、CdTe等多種化合物材料的多晶合成工藝。

氧化鎵CZ法長晶設備

可用于“第四代”單晶材料，氧化鎵Ga2O3等氧化物材料晶圓的生長制造。

CVD高溫裂解設備

臥式管狀加熱爐主要應用在半導體晶體材料的生長工藝過程中，對石英坩堝內壁鍍碳處理，能夠有效阻隔高溫溶體與石英坩堝的反應，有利于完整、高質量單晶體的生產。

多晶合成設備（搖擺法）